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Nanofabrikation


NNanofabrication umfasst unterschiedlichen Bereichen wie; nanophotonische und Solid-State-Schaltungen, mikroelektromechanische Systeme und mikrofluidische Systeme. Die Elionix Elektronenstrahllithographie (EBL) Werkzeuge sind für höchste Präzision bekannt, kleine Nanostrukturen, hohe Zuverlässigkeit, geringer Platzbedarf und niedrigen Betriebskosten zu fertigen.

Seit 1975 hat Elionix bedeutende Beiträge auf dem Gebiet der Feinverarbeitung und Messung und Analyse vorgenommen. Die Elionix Unternehmensphilosophie ist, dass von zwei CSs; Herausforderung und Geschwindigkeit, und Kundenzufriedenheit. Bis heute hat Elionix über 350 EBL-Systeme verkauft Instituten und Industriekunden weltweit zu erforschen.

Electron Beam Lithography


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ELS-F125
  • 125kV Spalte
  • 8 "(200 mm) Bühne
  • 5 nm Linien oder weniger (garantiert)
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ELS-F100
  • 100kV Spalte
  • 8 "(200 mm) Bühne
  • 6 nm Linien oder weniger (garantiert)
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ELS-G100
  • 100kV Spalte
  • 6 "(150 mm) Bühne
  • 6 nm Linien oder weniger (garantiert)

Elektronenstrahl
Lithografiesysteme :

Seit über 40 Jahren hat sich Elionix gewesen erschöpfend in ihrem Streben nach Qualität und Leistung. Dies hat sie der weltweite Marktführer in der Elektronenstrahllithographie hergestellt.

Bei Elionix, liegt der Schwerpunkt auf Engineering-Systeme, die stabil, robust und bieten eine hohe Auslastung.Erfahren Sie mehr >>

Elektronenstrahllithographie Bilder:

  • Die Elionix 125kV und 100kV EBL-Systeme bieten extrem feine Linien und Maßraster

  • Die Elionix Kreis-Muster-Generator (CPG) ermöglicht feine, glatte und schnelle Schreiben von Ring und Bogenmuster

  • Die Elionix EBL Systeme verfügen über schnelle Schreiben auf große Felder mit minimaler Verzerrung bei hohen Strahlströmen


October 23, 2015