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News & Events

February 15, 2016
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Harvard-Forscher Select Award Winning 125kV Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Wir freuen uns, ein zweites ELS um von der Harvard Center for Nanoscale-Systeme gelegt für die Elionix ELS-F125 Elektronenstrahl-Lithographiesystem bekannt zu geben. "Wir sind sehr beeindruckt von der Leistungsfähigkeit des neuen Systems", so Dr. Eric Martin, Technischer Direktor des Harvard Center for Nanoscale-Systeme. ... read more Nid: 63

NTNU Wählt Elionix Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Semtech Solutions, in Partnerschaft mit Elionix, freut sich, die Bestellung eines 100kV Elektronenstrahllithographie (EBL) System der Norwegischen Universität für Wissenschaft und Technologie (NTNU) bekannt zu geben. "Die Elektronenstrahl-Lithographie Features auf dem Elionix ELS-G100 angeboten werden, die den Anforderungen für Forschungseinrichtungen weltweit", erklärt Dr. Kay Gastinger, Direktor NTNU NanoLab.... read more Nid: 59

City University of New York, um Elionix Elektronenstrahl-Lithographiesystem installieren

Semtech Solutions, in Partnerschaft mit Elionix, freut sich, die Lieferung eines 100 kV Elektronenstrahllithographie (EBL) System der City University of New York (CUNY) Erweiterte Wissenschaftszentrum (ASRC) bekannt zu geben. "Die Elionix Elektronenstrahl-Lithographiesystem wird uns ermöglichen, regelmäßig zu schreiben Muster von weniger als 10 Nanometer groß", sagt Dr. Jacob Trevino, Nanofabrication Fazilität Director. "Wir werden auf diesem System die Forscher bei der Entwicklung... read more Nid: 55

Harvard Akzeptiert die Elionix ELS-7000 EBL-System

<div><p>Harvard-Forscher vor kurzem nahm die Elionix ELS-7000 100 kV Elektronenstrahl-Lithographiesystem am Center for Nanoscale Systems (ZNS). Die 100 kV-System kann das Schreiben von feinen Mustern von 8 nm und der Minimierung der Proximity-Effekte, die beim Schreiben von kleinen Mustern auftreten. Das Neueste&nbsp;<a href="http://www.cns.fas.harvard.edu/about/docs/NanoWire_Fall_2007.... read more Nid: 51