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February 15, 2016
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Los investigadores de Harvard Seleccionar galardonado 125kV Electron Beam Sistema Litografía

Nos complace anunciar una segunda orden ELS colocado por el Centro de Harvard para sistemas a nanoescala para el ELS-F125 sistema de litografía por haz de electrones Elionix. "Estamos muy impresionados con el rendimiento de este nuevo sistema", afirma el Dr. Eric Martin, Director Técnico del Centro de Sistemas de nanoescala de Harvard. ... read more Nid: 64

NTNU Selecciona Sistema Elionix litografía por haz de electrones

Soluciones SEMTECH, en colaboración con Elionix, se complace en anunciar el fin de un sistema de 100kV Electron Beam Litografía (EBL) a la Universidad Noruega de Ciencia y Tecnología (NTNU). "Las características de litografía por haz de electrones se ofrecen en el Elionix ELS-G100 están cumpliendo con los requisitos de las instalaciones de investigación en todo el mundo", afirma el Dr. Kay Gastinger, Director NTNU NanoLab.... read more Nid: 60

City University de Nueva York para Install System Elionix litografía por haz de electrones

Soluciones SEMTECH, en colaboración con Elionix, se complace en anunciar la entrega de un sistema de 100kV Electron Beam Litografía (EBL) a la Universidad de la Ciudad del Centro de Investigación en Ciencias (CUNY) Avanzada Nueva York (CAES). "El sistema Elionix Electron Beam Litografía nos permitirá escribir rutinariamente patrones de menos de 10 nanómetros de tamaño," dice el Dr. Jacob Treviño, director de la institución nanofabricación. "Vamos a contar con este sistema para ayudar a los... read more Nid: 56

Harvard Acepta el Sistema EBL Elionix ELS-7000

Investigadores de Harvard aceptadas recientemente el sistema de 100kV Electron Beam Litografía Elionix ELS-7000 en el Centro de Sistemas de nanoescala (SNC). El sistema de 100 kV es capaz de escribir patrones finos de 8 nm, y la minimización de los efectos de proximidad que se producen al escribir patrones pequeños. Lo último ... read more Nid: 52