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News & Events

February 15, 2016
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HLes chercheurs de Harvard Sélectionnez Award Winning 125kV Electron système Lithographie faisceau

Nous sommes heureux d'annoncer un deuxième ordre ELS placé par le Centre de Harvard pour Nanoscale Systems pour le système de lithographie par faisceau d'électrons ELS-F125 Elionix. "Nous sommes très impressionnés par les performances de ce nouveau système», déclare le Dr Eric Martin, directeur technique du Centre de Harvard pour Nanoscale Systems. ... read more Nid: 62

NTNU Sélectionne le système Elionix faisceau d'électrons Lithographie

Solutions Semtech, en partenariat avec Elionix, est heureux d'annoncer l'ordre d'un système 100kV faisceau d'électrons Lithographie (EBL) à l'Université norvégienne des sciences et de la technologie (NTNU). "Les caractéristiques de lithographie à faisceau d'électrons offerts sur le Elionix ELS-G100 respectent les exigences pour les installations de recherche du monde entier," déclare le Dr Kay Gastinger, Directeur NTNU NanoLab.... read more Nid: 58

City University de New York pour installer le système Elionix faisceau d'électrons Lithographie

Solutions Semtech, en partenariat avec Elionix, est heureux d'annoncer la livraison d'un système 100kV faisceau d'électrons Lithographie (EBL) à la City University de (CUNY) avancée Sciences Research Center de New York (ASRC). "Le système Elionix faisceau d'électrons Lithographie nous permettra d'écrire régulièrement des modèles de moins de 10 nanomètres," explique le Dr Jacob Trevino, Directeur de la Facilité d'NanoFabrication. "Nous allons compter sur ce système pour aider les chercheurs à... read more Nid: 54

Harvard accepte le système EBL Elionix ELS-7000

Les chercheurs de Harvard a récemment accepté le système 100kV faisceau d'électrons Lithographie Elionix ELS-7000 au Center for Nanoscale Systems (CNS). Le système 100kV est capable d'écrire des motifs fins de 8nm, et de minimiser les effets de proximité qui se produisent lors de l'écriture de petits motifs. La dernière  ... read more Nid: 50