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Products

December 7, 2015

ELS-G100


Image: 
Product Series: 
Gシリーズ
ELS-G100

エリオニクスELS-F100は、市場を満たすために開発された高速、超高精度の熱電界放出(TFE)、電子ビーム描画装置で、次世代ナノメートルのアプリケーションのために必要です。 

超細線リソグラフィ 

ELS-G100は、7nmの線幅を有するパターンを生成することができます。システムは、100kVで高いビーム電流をread more



Model:
Model: 
ELS-G100
Nano Specs:
Nano Specs: 
  • 7nmの線幅でパターンを生成します
  • 100kVで高いビーム電流を用いて、安定した1.8nmの電子ビーム
  • 20ビットのDACはハイビーム位置決め分解能を提供
  • 1nAのビーム電流では、20nmのラインはステッチなしで全体500μmのフィールドの上に書き込むことができます
  • 8インチステージ
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December 8, 2015